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上海泰晟与您分享工程塑料在铜箔生产环节中的重要应用


在当今高速发展的电子工业与新能源领域,铜箔作为印制电路板(PCB)和锂电池的重要基础材料,其质量与性能直接决定着终端产品的可靠性、效率与品质。然而,在追求薄化(现已达4.5μm乃至更薄)、高均匀性与光滑表面的铜箔生产中,一个常被忽视却至关重要的角色悄然屹立于各个关键环节——性能良好的工程塑料制品,参与生产流程、提升最终产品品质。


一、 铜箔生产环境


现代铜箔生产,主要采用电解法。高纯度的铜在通电条件下于电解液中沉积到旋转的钛或不锈钢阴极辊表面,形成原箔,再经剥离、清洗、防氧化处理、分切等工序。整个过程充满挑战:


1.  强腐蚀环境:电解液通常为高温硫酸铜溶液,酸性强,且伴有电化学腐蚀。


2.  高洁净度要求:任何微小的颗粒污染、金属离子污染或有机杂质都可能导致铜箔表面出现凹坑或结瘤,影响其作为导电层或集流体的性能。


3.  精密机械作用:阴极辊的平稳运行、铜箔的稳定剥离与传输,需要部件具备极低的摩擦系数、优异的耐磨性以及杜绝任何可能划伤箔面的风险。


4.  高温工作环境:部分处理槽液温度可达70℃以上,接触部件必须长期耐热且变形极小。


传统的金属或普通塑料材料并不能很好的满足在此环境下工作的需求:金属易腐蚀,从而污染电解液;普通塑料则易变形、老化、析出杂质。这正是高性能工程塑料制品大显身手的机会。


二、 工程塑料制品在生产过程中的应用


1. 阴极辊边缘密封圈


在电解沉积槽中,控制铜箔的沉积宽度和边缘轮廓至关重要。采用超高分子量聚乙烯(UHMW-PE)或氯化聚氯乙烯(CPVC/耐热PVC)等高分子材料精密加工而成的密封圈,紧密贴合于阴极辊两侧。它们不仅必须具有良好的耐硫酸腐蚀性,还需具备出色的尺寸稳定性和低吸水性,长期浸泡不变形,确保沉积边界清晰、整齐,无毛刺或锯齿,从源头上保证铜箔的宽度精度和利用率。


阴极辊密封圈


2. 电解槽内部部件


搅拌器:用于促进电解液均匀流动。采用PVDF或聚丙烯(PP)制成的叶轮和轴,兼具良好的耐化学性、**度和轻量化,避免金属搅拌器可能带来的污染风险,并降低驱动能耗。


内衬组件:保护槽体,绝缘固定。增强聚丙烯(PPH)或聚氯乙烯(PVC)等材料制造的衬板,提供的抗腐蚀保护,其光滑表面也易于清洁维护,防止污垢堆积。


过滤系统组件:为确保电解液超纯,精密过滤不可或缺。过滤器外壳、滤芯端盖等大量使用PVDF或PTFE材料,杜绝任何杂质引入,保障铜箔沉积的微观环境纯净。


内衬板


3. 剥离与传输系统

从阴极辊上剥离下来的原箔薄且湿,极为易损。此区域的塑料部件直接与箔面接触,要求很高:


剥离导辊与转向辊:采用聚醚醚酮(PEEK)或表面特殊处理的UHMW-PE 制成的辊套或包覆层。这些材料具有自润滑性、低的摩擦系数、高耐磨且无金属析出。它们确保铜箔平滑剥离与转向,杜绝划伤、拉皱或静电吸附污染物。


夹持与驱动辊:同样适用高性能塑料包覆,提供足够牵引力的同时,以柔软的接触保护箔面,避免压痕。


4. 清洗与后处理系统

在后续的酸洗、钝化、有机涂覆等工序中,槽内滚轮、支架、喷嘴、泵阀等部件持续暴露于多种化学介质。PVDF、PTFE(聚四氟乙烯)、氯化聚氯乙烯(CPVC/耐热PVC)等材料因其宽广的耐化学范围,成为这些部件的选择。


cpvc槽体


在铜箔分切、检验、包装区域,微尘与静电是困扰因素。使用防静电PVC等材料制成的托盘、垫板、设备壳体,能一定程度导走静电荷,防止吸附灰尘和因静电导致的箔面粘连或操作困难,保障后工序的洁净度。

上海泰晟提供铜箔进液系统、生箔机后处理系统等设备零部件定制,欢迎咨询~


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上海泰晟电子科技发展有限公司是国内液晶、半导体、水处理、新能源领域集研发、销售、技术服务为一体的综合性进口工业器材服务商。产品涵盖各类阀门(日本旭有机材、法国TECOFI、美国红阀)、塑料制品(日本三菱、瑞士跨骏)、管材管件、电容器用BOPP薄膜(日本王子)、三菱铝合金、美铝、进口钛板、碳纤维复合材料、IGBT模块、铝塑板等几大项多个系列。


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